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Une cible de tungstène fritté pour pulvérisation, caractérisé en ce qu'il présente une densité relative de 99% ou plus, d'un diamètre moyen de grains de cristal de 100 mm ou moins, une teneur en oxygène de 20 ppm ou moins et une force de déplacement de 500 MPa ou plus ; et un procédé de préparation de la cible de tungstène à la stabilité à un faible coût, qui utilise des conditions de production améliorées pour une poudre de tungstène de matières premières et l'amélioration des conditions de frittage. La cible de tungstène fritté a un haut niveau de densité et un haut degré de la finesse d'une structure cristalline qui n'ont jamais été atteints par une pression de frittage conventionnel méthode et a été nettement amélioré en vigueur de déviation, qui a abouti à la diminution sensible de la fréquence des défauts de particules.
Matériel: Tungsten
Taille: Thinkness (<20mm) xWideth (<300 mm) x Longth (500mm)
Condition: sol
Application: industrie du revêtement PVD, x-ray et ainsi de suite.
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