Alvos sputtering

Pulverização catódica é um novo modo de revestimento de vapor física, métodos de revestimento de evaporação em comparação com os pontos anteriores, as suas muitas vantagens são evidentes. Como tem sido o desenvolvimento de uma tecnologia mais madura, pulverização catódica tem sido utilizado em muitos campos.

Magnetron princípio de pulverização : o eléctrodo alvo é vaporizada ( cátodo ), aplicada entre o ânodo e um ortogonais campos eléctricos e magnéticos de uma câmara de alto vácuo preenchido com um gás inerte, é necessário ( normalmente gás Ar) , o íman permanente no material do alvo é formado sobre a superfície de 250 a 350 gauss, com o campo eléctrico de alta tensão constituída por campos electromagnéticos ortogonais . No campo eléctrico , gás ionizado Ar em iões positivos e electrões , o alvo mais uma certa pressão negativa , a probabilidade de ionização de electrões pelo efeito do campo magnético com o gás de trabalho a partir dos eléctrodos -alvo aumenta emitidos perto do cátodo de modo a formar um plasma de alta densidade corpo , os íons de Ar acelerado sob a ação da força de Lorentz para a superfície do alvo em um bombardeio de alta velocidade da superfície do alvo , de modo que o alvo é micropulverizada átomos para seguir o princípio da transferência de momento da alta energia cinética em direção ao substrato superfície alvo deposição de filmes . Magnetron sputtering é geralmente dividida em dois tipos: um afluente do sputtering e sputtering RF , um afluente do dispositivo de pulverização catódica , que é simples em princípio, na pulverização de metal, sua taxa também é rápido. O uso de uma gama mais ampla de pulverização RF , a pulverização pode ser um material condutor , além disso , de pulverização pode também ser um material não -condutor , um óxido , também é preparado por divisão de pulverização catódica reactiva , nitreto ou carboneto de material composto . Se as RF freqüência aumenta depois de se tornar micro-ondas pulverização de plasma , a corrente comumente usado ressonância ciclotron de elétrons (ECR) pulverização de plasma de microondas.

Alvo de pulverização Magnetron:

Alvos de metal de pulverização catódica, alvos sputtering da liga, alvos sputtering de cerâmica, cerâmica Boreto alvo de pulverização, carboneto, alvos sputtering de cerâmica, cerâmica de nitreto de pulverização flúor alvo alvo de pulverização de cerâmica, óxido alvo de cerâmica, alvo de pulverização cerâmica seleneto, alvos sputtering cerâmica silicite, cerâmica sputtering sulfetos alvo , teluretos alvos cerâmicos pulverização catódica, outro alvo de cerâmica, alvo de cerâmica de óxido de cromo silício dopado (Cr-SiO), alvo fosfeto de índio (InP), alvo de chumbo e arsénio (ABP), alvo arseneto de índio (InAs).

De alta densidade alvo de pulverização de alta pureza:

O alvo sputtering (pureza: 99,9% -99,999%)

1.Alvo de metal:

Alvo de níquel, Ni, alvo Ti, Ti, alvo Zn, Zn, Cr-alvo, Cr, alvo Mg, Mg, alvo NB, NB, alvo Sn, Sn, alvo Al, Al, alvo de índio, em, alvo Fe, Fe, alvo de zircônio de alumínio, zRAL, Alumínio, alvo de titânio, TiAl, alvo de zircônio, Zr, alvo Al-Si, AlSi, alvo de silício, Si, alvo Indonésia, alvo de tântalo T, a, a germânio alvo, Ge, alvo de prata, Ag, alvo de cobalto, Co, alvo de ouro, Au, alvo D'us, D'us, o LITHIUM alvo, La, alvo de ítrio, Y, alvo Ce, Ce, alvo de tungstênio, w, alvo de aço inoxidável, o níquel-alvo antioxidante, NiCr, alvo de háfnio , Hf, mamografia, Missouri, alvo de ferro-níquel, Feni, alvo de tungstênio, W, etc.

2.Alvo de cerâmica

Alvo ITO, o óxido de magnésio alvo, alvo de óxido de ferro, um alvo de nitreto de silício, carboneto de silício alvo, um alvo de nitreto de titânio, óxido de crómio-alvo, um alvo de óxido de zinco, sulfureto de zinco alvo, alvo de sílica, óxido de silício-alvo, cério dióxido de óxido alvo, alvo de zircônio, alvo de pentóxido de nióbio, alvo de dióxido de titânio, alvo de dióxido de zircônio, óxido de háfnio alvo, uma meta de diboreto de titânio, zircônio diboreto alvo, alvo de trióxido de tungstênio, óxido de alumínio pentóxido de tântalo alvo, alvo pentóxido de nióbio, alvo de fluoreto de magnésio, fluoreto de ítrio alvo, alvo seleneto de zinco, um alvo de nitreto de alumínio, nitreto de silício alvo, um alvo de nitreto de boro, nitreto de titânio alvo, um alvo de carboneto de silício, o alvo de lítio do ácido nióbio, praseodímio alvo titanato, titanato de bário alvo, alvo de lantânio titanato, alvo óxido de níquel, alvos sputtering.